京都大学 ナノテクノロジーハブ拠点

A:ナノリソグラフィー装置群

A1 高速高精度電子ビーム描画装置  
品名・型番: 超高精細高精度電子ビーム描画装置ELS-F125HS
製造   : 株式会社エリオニクス

A2 露光装置(ステッパー)  
品名・型番: 縮小投影型露光装置NSR-2205i11D
製造   : 株式会社ニコン

A3 レーザー直接描画装置  
品名・型番: レーザー描画装置 DWL2000
製造   : 株式会社日本レーザー (Heiderberg Instruments Mikrotechnik)

A4 高速マスクレス露光装置  
品名・型番: マスクレス露光装置 D-light DL-1000GS/KCH
製造   : 株式会社ナノシステムソリューションズ

A5 両面マスクアライナー  
品名・型番: 手動両面マスクアライナ SUSS MA6 BSA
製造   : ズース・マイクロテック株式会社

A6 紫外線露光装置  
品名・型番: マスクアライナー MA-10型
製造   : ミカサ株式会社

A7 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置  
品名・型番: SUSS DELTA80T3/VP
製造   : ズース・マイクロテック株式会社

A8 レジスト塗布装置  
品名・型番: ウエハスピンコータ KRC-150CBU
製造   : 株式会社カナメックス

A9 スプレーコータ  
品名・型番: マイクロマシン/MEMS用スプレーコーター
製造   : ウシオ電機株式会社

A10 レジスト現像装置  
品名・型番: ウエハスピン現像装置 KD-150CBU
製造   : 株式会社カナメックス

A11 ウェハスピン洗浄装置  
品名・型番: ウエハスピン剥離・洗浄装置 KSC-150CBU
製造   : 株式会社カナメックス

A12 ウェハ汚染計測装置  
品名・型番: Agilent7700x ICP-MSシステム
製造   :アジレント・テクノロジー株式会社

A13 液滴吐出描画装置  
品名・型番: サブフェムトインクジェット加工装置 ST050
製造   : 株式会社SIJテクノロジ

A14 有機現像液型レジスト現像装置  
品名・型番: KD(EB)-150CBU
製造   : 株式会社カナメックス

A15 大面積超高精度電子線描画装置  
品名・型番: F7000S-KYT01
製造   : 株式会社アドバンテスト  

A51 EB露光装置  
品名・型番: BEAM DRAW
製造   : 株式会社東京テクノロジー

A52 露光装置(ステッパ)  
品名・型番: 縮小投影型露光装置 KS-7000
製造   : 株式会社大日本科研

A53 移動マスク紫外線露光装置  
品名・型番:  MUM-0001
製造   : 株式会社大日本科研

A54 両面マスクアライナ露光装置置  
品名・型番:  PEM-800
製造   : ユニオン光学株式会社

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