ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

B:ナノ材料加工・創生装置群

B57ナノインプリントシステム
Nanoimprint Lithography

  • Eitre3
  • 製造：Obducat
  • 最大3インチの基板サイズ対応の一括転写ナノインプリント装置
ナノインプリントシステム<br>Nanoimprint Lithography
特徴
空気圧による基板全面への均一なインプリント
基板への正確なパターン転写を実現
熱/UV対応の全面一括転写
非常に簡単な操作
表面形状を選ばずインプリント可能
マスタースタンパの消耗を低減できる方式
装置仕様
装置仕様 インプリント方式 熱およびUV、全面一括
到達温度 250℃（最高）
圧力 50bar（最高）
基板サイズ 3インチΦ（最大）
設置場所
桂クリーンルーム
装置利用料金
こちらをご覧ください。