ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

A01高速高精度電子ビーム描画装置
Ultra-High Precision Electron Beam Lithography

  • 超高精細高精度電子ビーム描画装置
  • ELS-F125HS
  • 製造：(株)エリオニクス
  • 加速電圧125kVを採用し、かつ最小ビーム径をΦ1.7nmにすることで最小加工線幅5nmが可能
高速高精度電子ビーム描画装置<br>Ultra-High Precision Electron Beam Lithography
装置仕様
電子銃 ZrO/W熱電界放射型
加速電圧 125kV,100kV,75kV,50kV,25kV
最少電子ビーム径 1.7nm(於125kV)
描画最小線幅 5nm(於125kV)
ビーム電流強度 5pA～120nA
描画フィールドサイズ 最大2,400μm×2,400μm(於25kV)
1,200μm×1,200μm(於75,50,25kV)
500μm×500μm(於125kV,100kV)
最小100μm×100μm
ビームポジション 最大1,000,000×1,000,000(20bit DAC)
ビーム位置決め分解能 0.078nm
最大試料サイズ 8インチΦウェハー又は8インチ□マスク
設置場所
総合研究6号館
イエロールーム
装置利用料金
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