ナノテクノロジー プラットフォーム 微細加工プラットフォームコンソーシアム 実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学 ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学 微細構造解析プラットフォーム
・京都大学 医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

No.装置名/製造社品名/型番
A01
詳細
・高速高精度電子ビーム描画装置
Ultra-High Precision Electron Beam Lithography
・(株)エリオニクス
・超高精細高精度電子ビーム描画装置 ・ELS-F125HS
A02
詳細
・露光装置(ステッパー)
i-line Stepper
・(株)ニコン
・縮小投影型露光装置 ・NSR-2205i11D
A03
詳細
・レーザー直接描画装置
Laser Pattern Generator
・Heiderberg Instruments
・レーザー描画装置 ・DWL2000
A04
詳細
・高速マスクレス露光装置
High Speed Maskless Laser Lithography
・(株)ナノシステムソリューションズ
・マスクレス露光装置 ・D-light DL-1000GS/KCH
A05
詳細
・両面マスクアライナー
Manual High Precision Double-Sided Mask Aligner
・ズース・マイクロテック(株)
・手動両面マスクアライナ ・MA6 BSA SPEC-KU/3
A06
詳細
・紫外線露光装置
Contact Mask Aligner
・ミカサ(株)
・マスクアライナー ・MA-10
A07
詳細
・厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
Advanced Spin Coater
・ズース・マイクロテック(株)
・SUSS ・DELTA80 T3/VP SPEC-KU
A08
詳細
・レジスト塗布装置
Photoresist Spin Coater
・(株)カナメックス
・ウエハスピンコータ ・KRC-150CBU
A09
詳細
・スプレーコータ
Photoresist Spray Coater
・ウシオ電機(株)
・マイクロマシン/MEMS用スプレーコーター ・USC-2000ST
A10
詳細
・レジスト現像装置
Photoresist Developer
・(株)カナメックス
・ウエハスピン現像装置 ・KD-150CBU
A11
詳細
・ウエハスピン洗浄装置
Wafer Spin Cleaner
・(株)カナメックス
・ウエハスピン剥離・洗浄装置 ・KSC-150CBU
A12
詳細
・ウエハ汚染計測装置
Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer
・アジレント・テクノロジー(株)
・ICP-MSシステム ・Agilent7700s
A13
詳細
・液滴吐出描画装置
Super Fine Inkjet Printer
・(株)SIJテクノロジ
・サブフェムトインクジェット加工装置 ・ST050
A14
詳細
・有機現像液型レジスト現像装置
EB-Resist Developer
・(株)カナメックス
・8KD(EB)-150CBU
A15
詳細
・大面積超高速電子線描画装置
Large Area and Ultra-High Speed Electron Beam Lithography
・(株)アドバンテスト
・F7000S-KYT01
A53
詳細
・移動マスク紫外線露光装置
Moving Mask UV Lithography
・(株)大日本科研
・MUM-0001
A54
詳細
・両面マスクアライナー露光装置
Double-Sided Mask Aligner
・ユニオン光学(株)
・PEM-800

B:ナノ材料加工・創造装置群

No.装置名/製造社品名/型番
B01
詳細
・多元スパッタ装置(仕様A)
RF Magnetron Multi-Sputter Type-A
・キャノンアネルバ(株)
・汎用性スパッタリング装置 ・EB1100
B02
詳細
・多元スパッタ装置(仕様B)
RF Magnetron Multi-Sputter Type-B
・キャノンアネルバ(株)
・汎用性スパッタリング装置 ・EB1100
B03
詳細
・電子線蒸着装置
Electron Beam Evaporator
・キャノンアネルバ(株)
・自動蒸着装置 ・EB1200
B04
詳細
・真空蒸着装置
Thermal Evaporator
・(株)サンバック
・抵抗加熱蒸着装置 ・RD-1400
B05
詳細
・プラズマCVD
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition System
・住友精密工業(株)
・SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置 ・MPX-CVD
B06
詳細
・集束イオンビーム/走査電子顕微鏡
Cross-Beam with Focused Ion Beam and FE-SEM
・エスアイアイナノテクノロジー
・NVision40PI
B07
詳細
・熱酸化炉
Thermal Oxidation Furnace
・光洋サーモシステム(株)
・チューブ炉 ・MT-8X28-A
B08
詳細
・深堀りドライエッチング装置
Reactive Ion Deep Silicon Etcher
・サムコ(株)
・MEMS用高速シリコンエッチング装置 ・RIE-800iPB-KU
B09
詳細
・磁気中性線放電ドライエッチング装置
Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma Dry Etcher
・(株)アルバック
・高密度プラズマドライエッチング装置 ・NLD-570
B10
詳細
・ドライエッチング装置
Capacitive Coupled Plasma Reactive Ion Etcher
・サムコ(株)
・リアクティブイオンエッチング装置 ・RIE-10NR-KF
B11
詳細
・電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
Electron Cyclotron Resonance Ion Shower
・(株)エリオニクス
・ECRイオンシャワー装置 ・EIS-1200
B12
詳細
・シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
Vapor HF Release Etcher
・住友精密工業(株)
・シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチング装置 ・MLT-SLE-Ox
B13
詳細
・シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
Vapor XeF 2 Release Etcher
・XACTIX社
・シリコン犠牲層ドライエッチング装置 ・Xetch X3B
B14
詳細
・赤外フェムト秒レーザ加工装置
Femtosecond Cr:Forsterite Laser System
・AVESTA PROJECT社
・CrF-65
B15
詳細
・レーザアニール装置
KrF Laser Annealing System
・AOV(株)
・KrFエキシマレーザアニーリング システム ・LAEX-1000
B16
詳細
・紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
UV-Nanoimprint Lithography & Infrared Mask/Bond Aligner
・ズース・マイクロテック(株)
・MA/BA8 Gen3 SPEC-KU
B17
詳細
・基板接合装置
Wafer Bonder
・ズース・マイクロテック(株)
・SB8e SPEC-KU
B18
詳細
・レーザダイシング装置
Laser Stealth Dicer
・(株)東京精密工業
・Mahoh Dicer ML200
B19
詳細
・ダイシングソー
Automatic Dicing Saw
・(株)ディスコ
・オートマチックダイシングソー ・DAD322
B20
詳細
・真空マウンター
Wafer Vacuum Mounter
・日本電気(株)
・真空テープ貼り付け装置 ・VTL-201
B21
詳細
・紫外線照射装置
UV Curing System
・テクノビジョン
・LED光源UVフィルム硬化装置 ・LED-4082
B22
詳細
・エキスパンド装置
Die Matrix Expander
・テクノビジョン
・ウエハー拡張装置 ・TEX-21BG GR-5
B23
詳細
・ウェッジワイヤボンダ
Ultrasonic Insulated Wire Bonder
・WEST BOND社
・超音波熱圧着ウェッジワイヤーボンダー ・7476D
B24
詳細
・ボールワイヤボンダ
Ball Wire Bonder
・WEST BOND社
・超音波熱圧着ボールワイヤー&バンプボンダー ・7700D
B25
詳細
・ダイボンダ
Dual Head Epoxy Die Bonder
・WEST BOND社
・マニュアルエポキシボンダー ・7200CR
B26
詳細
・ナノインプリントシステム
Nanoimprint Lithography
・Obducat
・Eitre3
B27
詳細
・赤外透過評価検査・非接触厚み測定機
Infrared MEMS Analyzer
・(株)モリテックス
・IRise-T
B28
詳細
・電子線蒸着装置(2)
Electron Beam Evaporator(2)
・(株)大阪真空機器製作所
・薄膜製造加工システム ・OVE-350
B29
詳細
・高性能マッフル炉
Muffle Furnace
・(株)アズワン
・HPM-2N
B51
詳細
・パリレン成膜装置
Parylene Coater
・SCS社
・ラボコータ ・LABCOTERPDS-2010
B52
詳細
・ICP-RIE装置
Inductive Coupled Plasma Reactive Ion Etcher
・(株)ULVAC
・NE-730
B53
詳細
・簡易RIE装置
Tabletop Reactive Ion Etcher
・(株)サムコ
・FA-1
B54
詳細
・ウエハ接合装置
Surface Activated Wafer Bonder
・ボンドテック(株)
・WAP-100
B55
詳細
・ナノインプリント装置
Nanoimprint Lithography
・(株)マルニ
・TP-32937
B56
詳細
・ダイシング装置
Automatic Dicing Saw
・(株)ディスコ
・オートマチックダイシングソー ・DAD322

C:ナノ材料分析・評価装置群

No.装置名/製造社品名/型番
C01
詳細
・超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
Ultra-High Resolution Filed Emission SEM
・(株)日立ハイテクノロジーズ
・日立超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡 ・SU-8000
C02
詳細
・分析走査電子顕微鏡
Analytical Variable-Pressure Field Emission SEM
・(株)日立ハイテクノロジーズ
・日立低真空分析走査電子顕微鏡 ・SU-6600
C03
詳細
・高速液中原子間力顕微鏡
Liquid-Environment High Speed AFM
・(株)生体分子計測研究所
・高速原子間力顕微鏡 ・NLV-KS
C04
詳細
・走査型プローブ顕微鏡システム
Bioscience Atomic Force Microscope
・BRUKER
・原子間力顕微鏡 ・NanoWizard III NW3-XS-O
C05
詳細
・共焦点レーザー走査型顕微鏡
Confocal Laser Scanning Microscope
・オリンパス(株)
・FV1000
C06
詳細
・3D測定レーザー顕微鏡
3D Measuring Laser Microscope
・オリンパス(株)
・OLS4000-SAT
C07
詳細
・顕微鏡観察・測定装置
Optical Microscope
・(株)ミツトヨ
・ユニバーサル測定顕微鏡/画像ユニットシステム ・MF-UB2010C
C08
詳細
・全反射励起蛍光イメージングシステム
Total Internal Reflection Fluorescence Microscope
・オリンパス(株)
・二波長同時励起全反射蛍光イメージングシステム ・TIRFM
C09
詳細
・長時間撮影蛍光イメージングシステム
Time-Lapse Fluorescence Microscope
・オリンパス(株)
・フォーカス補正機能付倒立型電動リサーチ顕微鏡 ・IX81-ZDC2
C10
詳細
・X線回折装置
Intelligent X-Ray Diffractometer
・(株)リガク
・全自動水平型多目的X線回折装置 ・SmartLab-9K
C11
詳細
・分光エリプソメーター
Spectral Ellipsometer
・大塚電子(株)
・分光エリプソメータ ・FE-5000
C12
詳細
・三次元粒子トラッキングシステム
Optical Tweezers & 3D Trapping System
・BRUKER
・Nano Tracker ・NT-O-OO1
C13
詳細
・ゼータ電位・粒径測定システム
Zeta Potential & Particle Size Analyzer
・大塚電子(株)
・ELSZ-2PLus
C14
詳細
・ダイナミック光散乱光度計
Dynamic Light Scattering Spectrophotometer
・大塚電子(株)
・DLS-8000DH
C15
詳細
・触針式段差計
Stylus Profilometer
・BRUKER
・触針式表面形状測定器 ・Dektak150
C16
詳細
・マイクロシステム アナライザ
Micro System Analyzer
・ポリテックジャパン(株)
・MSA-500-TPM2-20-D-KU
C17
詳細
・プローバ
Prober
・(株)日本マイクロニクス
・微小電流測定用ウエーハマニュアルプローバ ・708fT
C18
詳細
・真空プローバ
Vacuum Probe System
・カスケード・マイクロテック(株)
・真空マニュアルプローブシステム ・PLV50
C19
詳細
・パワーデバイスアナライザ
Power Device Analyzer & Curve Tracer
・アジレント・テクノロジー(株)
・半導体パラメータアナライザ ・B1505A
C20
詳細
・インピーダンスアナライザ
Precision Impedance Analyzer
・アジレント・テクノロジー(株)
・プレシジョンインピーダンスアナライザ ・4294A
C21
詳細
・光ヘテロダイン微小振動測定装置
Optical Heterodyne Laser Doppler Vibrometer
・ネオアーク(株)
・MLD-230D-200K
C22
詳細
・超微小材料機械変形評価装置
Nano-Indenter
・(株)エリオニクス
・超微小押し込み硬さ試験機 ・ENT-2100
C23
詳細
・デジタルマイクロスコープ
Digital Microscope
・(株)キーエンス
・VHX1000
C24
詳細
・セルテストシステム
Solar Cell Tester
・ソーラトロン社
・マルチスタット1470E型、周波数応答アナライザ1260型
C25
詳細
・卓上顕微鏡(SEM)
Tabletop SEM
・(株)日立ハイテクノロジーズ
・日立卓上顕微鏡 Miniscope ・TM3000
C26
詳細
・マニュアルプローバ
Manual Prober
・(株)アポロウェーブ
・α150
C27
詳細
・RFプローブキット
RF Microwave Probe Kit
・(株)アポロウェーブ
・ZPROBE
C28
詳細
・ネットワークアナライザ
Vector Network Analyzer
・ROHDE&SCHWARZ
・ベクトル・ネットワーク・アナライザ ・R&S ZVB
C29
詳細
・半導体パラメータアナライザ
Semiconductor Parameter Analyzer
・ケースレーインスツルメンツ
・4200-SCS
C30
詳細
・強誘電体特性評価システム
Piezoelectric Properties Evaluation System
・(株)東陽テクニカ
・FCE-3