ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

A08レジスト塗布装置
Photoresist Spin Coater

レジスト塗布装置<br>Photoresist Spin Coater
装置仕様
対応基板サイズ Φ2～6"
□4～5"
制御方式 シーケンサコントロール
20レシピ30ステップ
(回転数、加減速時間、処理時間、etc)
標準機能 レジストディスペンスアーム×1
スピン乾燥(MAX　5000rpm)
ウエハセンタリング治具付き
設置場所
総合研究6号館
イエロールーム
装置利用料金
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