ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

B:ナノ材料加工・創生装置群

B52ICP-RIE装置
Inductive Coupled Plasma Reactive Ion Etcher

ICP-RIE装置<br>Inductive Coupled Plasma Reactive Ion Etcher
装置仕様
試料サイズ 4インチ
対応基板 Si、ガラス 等
エッチング可能材料（実績のあるもの） DPXC、DPXN
エッチングガス SF6、CF4、CHF3、C4F8、Ar、O2
プラズマソース 誘導結合プラズマ
設置場所
桂クリーンルーム
装置利用料金
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