ナノテクノロジー プラットフォーム 微細加工プラットフォームコンソーシアム 実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学 ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学 微細構造解析プラットフォーム
・京都大学 医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

B:ナノ材料加工・創生装置群

B03電子線蒸着装置
Electron Beam Evaporator

電子線蒸着装置<br>Electron Beam Evaporator
装置仕様
基板サイズ Φ6"ウエハ x 3枚
蒸発源 10kW 4連E型電子銃(22ml x 4)
電子銃制御装置 EGP-210RS-B電子銃制御装置
EGP-212スイープコントローラ
回転機構 公転速度:1~12rpm
自転速度:3~35rpm
蒸発源-基板間距離 約300mm(リフトオフ対応)
基板加熱 300℃(ハロゲンランプ)
基板加熱 300℃(ハロゲンランプ)
蒸着材料 Al、Pt、Ti、Ni、Cr ほか 【要相談】
設置場所
総合研究6号館
クリーンルーム1
装置利用料金
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