ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

B:ナノ材料加工・創生装置群

B02多元スパッタ装置（仕様B）
RF Magnetron Multi-Sputter Type-B

多元スパッタ装置（仕様B）<br>RF Magnetron Multi-Sputter Type-B
装置仕様
装置構造 平行平板（スパッタアップ）
カソード 非磁性体Φ4"PMC ｘ 3基
基板トレイ Φ4"Siウエハ（JEIDA，SEMI） x 3枚用
Φ6"Siウエハ（JEIDA，SEMI） x 1枚用
基板ホルダ 加熱機構：800℃（ランプ加熱型）
回転機構：MAX60rpm 
Ｔ／Ｓ距離：100～200mm
RF電源 1,000kW x 3基（同時スパッタ可）
ガス供給 Ar、O2
使用ターゲット材 【要相談】
その他 逆スパッタ可
ロードロック室装備
設置場所
総合研究10号館
加工・評価室
装置利用料金
こちらをご覧ください。