ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

A10レジスト現像装置
Photoresist Developer

  • ウエハスピン現像装置
  • KD-150CBU
  • 製造：(株)カナメックス
  • フォトレジスト
    EBレジストのアルカリ現像、リンス、スピン乾燥
レジスト現像装置<br>Photoresist Developer
装置仕様
基板サイズ Wafer Φ2"～Φ6"、不定形 可
Mask □2.5",□5"
制御方式 シーケンサコントロール
20レシピ30ステップ(回転数、処理時間、スイング速度　etc)
機能 スイングアーム×1(パドル or スプレー)
リンスノズル(表面、裏面)
スピン乾燥(MAX 2000rpm)
設置場所
総合研究6号館
イエロールーム
装置利用料金
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