ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

A07厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
Advanced Spin Coater

厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置<br>Advanced Spin Coater
装置仕様
基板サイズ Φ6"ウエハ
Φ4"ウエハ
小片基板
溶媒 ポジ型／ネガ型フォトレジスト
ポリイミド
ＳＯＧ　ほか
スピン回転数 10～5,000rpm
スピン欠陥低減機構 GYRSET方式
レジストディスペンス タンク圧送式（粘度：10-400cP）
　　　　　　（粘度：800-4000cP）
シリンジ圧送式（粘度：10-600cP）
ソルベントリンス パドルリンス
エッジビードリムーバ
バックサイドリンス　ほか
付属品 ホットプレート（温度：60-250℃）
ベーパープライマ（HMDS）
設置場所
総合研究6号館
イエロールーム
装置利用料金
こちらをご覧ください。