ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

A56高速マスクレス露光装置
High Speed Maskless Laser Lithography

  • マスクレス露光装置
  • D-light DL-1000GS/KCH
  • 製造：(株)ナノシステムソリューションズ
  • グレースケール露光機能を備えたDMD方式の高速マスクレス露光装置
    厚膜レジスト(100μm以上)にも対応可能
高速マスクレス露光装置<br>High Speed Maskless Laser Lithography
装置仕様
光源 LED
主波長 405nm
露光パワー 1W/cm2以上
最小画素 1μm
ワークサイズ Φ6インチ
重ね合わせ精度 ±1μm以内
位置決め精度 ±0.1μm(内臓スケール繰り返し)
露光均一性 ±5%以内
最高処理能力 200m㎡/min以上
グレースケール露光 最大階調256階調
設置場所
桂／クリーンルーム
装置利用料金
こちらをご覧ください。