ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

A02露光装置（ステッパー）
i-line Stepper

露光装置（ステッパー）<br>i-line Stepper
装置仕様
解像度 0.35μmLS
加速電圧 0.63、0.57、輪帯、Shrink
露光光源 i線(365nm)
縮小倍率 1/5倍
露光範囲 □22～17.9×25.2mm
総合アライメント精度(EGA,|x|＋3σ) 70nm以下
アライメントシステム LSA,FIA
対応基板サイズ Φ6(他は相談)
ガラス等透明基板対応
設置場所
総合研究6号館
イエロールーム
装置利用料金
こちらをご覧ください。