ナノテクノロジー プラットフォーム 微細加工プラットフォームコンソーシアム 実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学 ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学 微細構造解析プラットフォーム
・京都大学 医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

B:ナノ材料加工・創生装置群

B05プラズマCVD
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition System

  • SiO2、SiN厚膜形成用プラズマCVD装置
  • MPX-CVD
  • 製造:住友精密工業(株)
  • 酸化膜と窒化膜を高速で成膜することができます。
プラズマCVD<br>Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition System
装置仕様
基板 MaxΦ8インチ、不定形に対応
平行平板型プラズマ発生装置 (上部RF電源:500W(13.56MHzHz)、
下部RF電源:500W(380kHz))
プロセスガス Ar O2 C4F8 N2 NH3 H2
液体材料 TEOS TSA
成膜温度 150〜350℃
設置場所
総合研究6号館
クリーンルーム1
装置利用料金
こちらをご覧ください。