ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

A21マスクレス露光装置
Advanced Maskless Aligner

  • THE ADVANCED MASKLESS ALIGNER
  • MLA150
  • 製造：Heidelberg Instruments
  • ・波長375nm、DMD方式のマスクレス露光装置
    ・裏面アライメントにも対応
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    The Maskless Aligner MLA 150 takes you into the future of photolithography: The traditional photomask becomes a thing of the past as your design file is exposed directly onto the resist-coated wafer via a 2-dimensional Spatial Light Modulator.
マスクレス露光装置<br>Advanced Maskless Aligner
装置仕様
光源 レーザーダイオード
主波長 375 nm
最小描画線幅 1.0 μm
最小描画L/S 1.2 μm
ワークサイズ Φ5 mm ～ ▢6 inch
ワークサイズ（厚み） 0.1 mmt ～10 mmt
露光均一性 120 nm（3σ）
オートフォーカス 光学式・空気式（選択式）
アライメント精度 ▢5 mmの範囲: 250 nm（3σ）
▢100 mmの範囲: 500 nm（3σ）
裏面アライメント精度 1 μm

メーカー製品情報ページ

設置場所
総合研究6号館／イエロールーム
装置利用料金
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