ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

A15大面積超高速電子線描画装置
Large Area and Ultra-High Speed Electron Beam Lithography

  • F7000S-KYT01
  • 製造：(株)アドバンテスト
  • 1Xnmの解像性能で、研究開発から製造までの幅広い用途に適応
大面積超高速電子線描画装置<br>Large Area and Ultra-High Speed Electron Beam Lithography
装置仕様
解像度 1Xnm
制御方式 ウエハ(Φ2"、Φ3"、Φ4"、Φ6"およびΦ8")
ガラス基板（4009、5009）
小片基板10mm〜30mm(厚み限定)
露光対象基板 CP露光方式・VSB露光方式
設置場所
総合研究10号館
加工評価室（クリーンルーム）
装置利用料金
こちらをご覧ください。