ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

A06紫外線露光装置
Contact Mask Aligner

  • マスクアライナー
  • MA-10
  • 製造：ミカサ(株)
  • Φ4インチまでの不定形試料に対応する実験用マスクアライナ
紫外線露光装置<br>Contact Mask Aligner
装置仕様
露光光源 高圧UVランプ250W(〜10mW/㎠)、ghi線
露光用タイマー 0～999.9秒　タイマーセット式
マニプレーター移動範囲 X・Y:±5mm　微動1/8mm1回転θ:70°微動±7°
Z:3mm　微動0.16mm
十字ステージ移動範囲 X・Y:±20mm
マスクサイズ 5インチ角、2.5インチ角
試料サイズ MAXΦ4インチ
試料厚 MAX2mm
設置場所
総合研究6号館
イエロールーム
装置利用料金
こちらをご覧ください。