ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

A55両面マスクアライナー
Manual High Precision Double-Sided Mask Aligner

両面マスクアライナー<br>Manual High Precision Double-Sided Mask Aligner
装置仕様
ウェハサイズサイズ 2インチ～150mm
基板サイズ 不定形小片～150mm角
露光モード プロキシミティ(ギャップ1～300μm)、
バキュームコンタクトソフトコンタクト、
ハードコンタクト、ソフトバキュームコンタクト
アライメント精度 0.5μm(TSA)　TSA:表面アライメント
±0.1μm(BSA)　BSA:裏面アライメント
設置場所
桂クリーンルーム
装置利用料金
こちらをご覧ください。