ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

A03レーザー直接描画装置
Laser Pattern Generator

  • レーザー描画装置
  • DWL2000
  • 製造：Heiderberg Instruments
  • Φ1μmのレーザービームを偏向・変調し高精度に制御されたステージとの組み合わせで微細パターンを描画
レーザー直接描画装置<br>Laser Pattern Generator
装置仕様
レーザー描画装置 200×200m㎡
最小描画サイズ 0.7μm
最小アドレス・グリッド 30(描画モードⅠ)～370 (描画モードⅣ)m㎡/分
3D露光モード アライメント用カメラシステム バックサイド・アライメント・ システム
描画データ入力フォーマット DXF,CIF,GDSll,Gerber,BMP,Ascii,STL
グレースケール露光対応
設置場所
総合研究6号館
イエロールーム
装置利用料金
こちらをご覧ください。