ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

A14有機現像液型レジスト現像装置
EB-Resist Developer

  • KD(EB)-150CBU
  • 製造：(株)カナメックス
  • EBレジストの有機溶剤系現像、
    IPAリンス、スピン乾燥
有機現像液型レジスト現像装置<br>EB-Resist Developer
装置仕様
基板サイズ Wafer　Φ4",Φ6"
Mask　□3,□4
制御方式 シーケンサコントロール
20レシピ、各レシピ30ステップ
（回転数、処理時間、スイング速度等）
対応粘度範囲 現像液ノズル2系統 (スイング機構付、表面用）
IPAリンスノズル1系統 (スイング機構付、表面用）
IPAリンスノズル1系統 (固定ノズル、裏面用）
現像液温調機能 (10～25℃±0.5℃）
N2ガスブローノズル（固定ノズル）
スピン乾燥 (MAX2000RPM）
設置場所
総合研究6号館
イエロールーム
装置利用料金
こちらをご覧ください。