ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

A19両⾯マスク露光&ボンドアライメント装置
UV-Nanoimprint Lithography & Infrared Mask/Bond Aligner

  • MA/BA8 Gen3 SPEC-KU
  • 製造：ズース・マイクロテック(株)
  • ウェハのマスクアライメント機能とボンドアライメント機能を兼ね備えた装置で、後者は接合機とセットで利用できる。
両⾯マスク露光&ボンドアライメント装置<br>UV-Nanoimprint Lithography & Infrared Mask/Bond Aligner
装置仕様
Wafer Size 1"to 200mm
Max. Substrate Size 200×200mm
Min. Pieces 15mm×15mm
Wafer Thickness max. 5mm
Top Side Alignment (TSA) accuracy < 0.25 μm
Infrared Alignment (IR)
Inter Substrate Alignment (ISA)
Assisted Alignment
DirectAlign
Alignment Gap 1-400 μm
(AL400-motorized focus and image capturing)
Accuracy Bond Aligner 2 μm
設置場所
総合研究6号館
イエロールーム
装置利用料金
こちらをご覧ください。