ナノテクノロジー プラットフォーム 微細加工プラットフォームコンソーシアム 実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学 ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学 微細構造解析プラットフォーム
・京都大学 医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

B:ナノ材料加工・創生装置群

B09磁気中性線放電ドライエッチング装置
Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma Dry Etcher

  • 高密度プラズマドライエッチング装置
  • NLD-570
  • 製造:(株)アルバック
  • 石英・ガラス・金属酸化物など多種材料に対応したドライエッチング装置
磁気中性線放電ドライエッチング装置<br>Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma Dry Etcher
装置仕様
プラズマ源 磁気中性線プラズマ(NLD)
基板サイズ Φ6"ウエハ(JEIDA,SEMI)
基板ステージ メカチャック
チラー温度制御(-20~40℃)
He冷却機構
高周波電源 アンテナ:2kW(13.56MHz)
バイアス:600W(12.5MHz)
ガス導入系 C4F8 CF4 CHF3 O2 Ar N2 (SF6)
用途 石英,ガラス,水晶,金属酸化物 ほか
その他 ロードロック室
設置場所
総合研究6号館
クリーンルーム1
装置利用料金
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