ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

B:ナノ材料加工・創生装置群

B37赤外線ランプ加熱装置
Rapid Thermal Annealing Apparatus

赤外線ランプ加熱装置<br>Rapid Thermal Annealing Apparatus
装置仕様
処理チャンバ雰囲気 N2、Ar、4%H2-N2、減圧（ロータリーポンプ）、大気
基板サイズ 最大6インチ、SiCコートカーボン製サセプタ：Φ165mm
温度・保持時間 最高温度1,100℃
800℃保持は30分以下
1,000℃保持は10分以下
1,100℃は保持時間なし（到達後すぐに降温）
昇温速度 10℃/秒以下（サセプタ保護）
用途 プログラム操作で、昇温、保持、降温を制御
設置場所
総合研究10号館
加工・評価室
装置利用料金
こちらをご覧ください。