この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学 ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学 微細構造解析プラットフォーム
・京都大学 医学研究科 医学研究支援センター
B39
UVナノインプリント装置
UV-based Nanoimprint Lithography System
EVG6200TBN
製造:
イーヴィグループ (EV Group)
光硬化性ポリマーやフォトレジストにナノ・マイクロレベルの構造を形成する光インプリントリソグラフィー装置
装置仕様
モールドサイズ
6インチΦ~4インチΦ、厚さ250μm~1.5mm
基板サイズ
6インチΦ~4インチΦ、厚さ250μm~1.5mm
LED光源
365nm、405nm、436nm
アライメント
±3.0μm
設置場所
総合研究6号館 イエロールーム
装置利用料金
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