ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

A:ナノリソグラフィー装置群

A11ウエハスピン洗浄装置
Wafer Spin Cleaner

  • ウエハスピン剥離・洗浄装置
  • KSC-150CBU
  • 製造：(株)カナメックス
  • 純水洗浄(メガソニックや2流体)
    スピン乾燥を行う枚葉式ウエハスピン洗浄装置
ウエハスピン洗浄装置<br>Wafer Spin Cleaner
装置仕様
ワークサイズ Wafer　Φ2"～Φ6"
Mask □2.5",□5
制御方式 シーケンサーコントロール
20レシピ30ステップ(回転数、処理時間、スイング速度 etc)
機能 スイングアーム×2
リンスノズル(表面、裏面)
スピン乾燥(MAX 2000rpm)
設置場所
総合研究6号館
イエロールーム
装置利用料金
こちらをご覧ください。