この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学 ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学 微細構造解析プラットフォーム
・京都大学 医学研究科 医学研究支援センター
B38
原⼦層堆積装置
Atomic Layer Deposition
AD-800LP-KN
製造:
サムコ(株)
ナノレベルかつコンフォーマルの薄膜を形成するためのALD装置。ゲート酸化膜、バリア膜、透過防止膜などへの利用が可能。
装置仕様
成膜方式
サーマル/プラズマ
基板サイズ
小片~Φ8"
材料ガス
BDEAS(Si系)、TMA(Al系)、TDMAT(Ti系) ほか(要相談)
反応ガス
H2O、O2、O3、N2、NH3、H2
キャリアガス
Ar、N2
設置場所
総合研究6号館
クリーンルーム1
装置利用料金
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