ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

B:ナノ材料加工・創生装置群

B11電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
Electron Cyclotron Resonance Ion Shower

  • ECRイオンシャワー装置
  • EIS-1200
  • 製造：(株)エリオニクス
  • 本装置はおもに微細加工のエッチングを行うための装置です。 ナノプリント用モールド作成などのナノテク分野の研究・加工で必要となる基板や、シリコン、 また磁性などのエッチングを行うことができます。
電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置<br>Electron Cyclotron Resonance Ion Shower
装置仕様
イオン銃 ECR型イオン銃
加速電圧 30～3000V
ビーム電流密度 1.0mA/cm2以上(加速電圧　1000VでArまたはO2使用時)
ビーム径 Φ108mm(700V加速,Ar又はO2ガス単独仕様で0.4mA
～0.6mA/cm2程度のビーム強度時)
試料サイズ Φ6インチ、Φ2.5インチ、□75mm×7mm
到達真空度 2×10-4Pa
試料ステージ 垂直回転水冷ステージ(温度制御：-20～70℃)
試料交換 ロードロック機構付
設置場所
総合研究6号館
クリーンルーム2
装置利用料金
こちらをご覧ください。