C02分析走査電子顕微鏡
Analytical Variable-Pressure Field Emission SEM
| 装置仕様 | |
| 分解能 | 【二次電子分解能】 1.2nm（Vacc：30kV／WD=5mm／Mag：x180k／HiVac） 3.0nm（Vacc：1kV／WD=4mm／Mag：x80k／HiVac） 3.0nm （Vacc：30kV／WD=5mm／Mag：x80k／LowVac：60Pa） 【反射電子分解能】 3.0nm （Vacc：30kV／WD=5mm／Mag：x80k／LowVac：10Pa） |
| 倍率 | x10～600,000 |
| 電子銃 | ZrO/Wショットキーエミッション形 |
| プローブ電流 | 1pA～200nA |
| 加速電圧 | 0.5～30kV |
| レンズ系 | 3段電磁レンズ縮小系 |
| 対物レンズ | アウトレンズ形 可動絞り（4孔） |
| 試料サイズ | MAX Φ150mm x t40mm |
| 検出器 | 二次電子検出器 高感度半導体反射電子検出器 |
| 真空度 | 高真空：< 7 x 10-4Pa 低真空：10～300Pa （ADAPT機能） |
| その他 | 試料交換器（エアロック方式） |
| 付属装置 | エネルギー分散形X線検出器（EDX）：Inca E-MAX20 後方散乱電子回折像検出器 （EBSD）：HKL Channel 5 IRカメラ イオンミリング装置（日立 E-3500PLUS） |
| 設置場所 |
| 総合研究10号館 加工・評価室 |
| 装置利用料金 |
| こちらをご覧ください。 |