ナノテクノロジー プラットフォーム 微細加工プラットフォームコンソーシアム 実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学 ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学 微細構造解析プラットフォーム
・京都大学 医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

C:ナノ材料分析・評価装置群

C02分析走査電子顕微鏡
Analytical Variable-Pressure Field Emission SEM

分析走査電子顕微鏡<br>Analytical Variable-Pressure Field Emission SEM
装置仕様
分解能 【二次電子分解能】
1.2nm(Vacc:30kV/WD=5mm/Mag:x180k/HiVac)
3.0nm(Vacc:1kV/WD=4mm/Mag:x80k/HiVac)
3.0nm 
(Vacc:30kV/WD=5mm/Mag:x80k/LowVac:60Pa)
【反射電子分解能】
3.0nm 
(Vacc:30kV/WD=5mm/Mag:x80k/LowVac:10Pa)
倍率 x10~600,000
電子銃 ZrO/Wショットキーエミッション形
プローブ電流 1pA~200nA
加速電圧 0.5~30kV
レンズ系 3段電磁レンズ縮小系
対物レンズ アウトレンズ形 可動絞り(4孔)
試料サイズ MAX Φ150mm x t40mm
検出器 二次電子検出器
高感度半導体反射電子検出器
真空度 高真空:< 7 x 10-4Pa
低真空:10~300Pa (ADAPT機能)
その他 試料交換器(エアロック方式)
付属装置 エネルギー分散形X線検出器(EDX):Inca E-MAX20 
後方散乱電子回折像検出器 
(EBSD):HKL Channel 5 IRカメラ 
イオンミリング装置(日立 E-3500PLUS)
設置場所
総合研究10号館
加工・評価室
装置利用料金
こちらをご覧ください。