この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学 ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学 微細構造解析プラットフォーム
・京都大学 医学研究科 医学研究支援センター
A54
両面マスクアライナー露光装置
Double-Sided Mask Aligner
PEM-800
製造：
ユニオン光学（株）
装置仕様
ウエハサイズ
チップ～4インチ
フォトマスクサイズ
2.5インチ，5インチ
露光モード
コンタクト，プロキシミティ
裏面アライメント
可能
アライメント精度
5μm以下
解像度
Φ4インチ
設置場所
桂クリーンルーム
装置利用料金
こちら
をご覧ください。
