この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学 ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学 微細構造解析プラットフォーム
・京都大学 医学研究科 医学研究支援センター
B07
熱酸化炉
Thermal Oxidation Furnace
チューブ炉
MT-8X28-A
製造:
光洋サーモシステム(株)
乾燥あるいは湿潤状態のN2 O2雰囲気中で、ウェハーを常用最高1050℃まで加熱することが可能です。
プログラムにより温度の制御が可能です。
半導体グレードのMOS界面は形成できません。
機能
基板
最大Φ6インチウェハーに対応、25枚/バッチ
常用最高温度
1050℃
設置場所
総合研究6号館
クリーンルーム2
装置利用料金
こちら
をご覧ください。