A53移動マスク紫外線露光装置
Moving Mask UV Lithography
| 装置仕様 | |
| 露光光源 | 超高圧水銀灯 |
| 主波長 | 365nm、405nm、436nm （フィルタにより選択可能） |
| 露光パワー | 39mW/cm2（UV-SN35） |
| 露光均一性 | ±5% |
| マスクサイズ | □5インチ |
| 試料サイズ | Φ4インチ |
| 試料厚 | 0.5mm |
| 位置決め | 手動 |
| 三次元加工 | 移動マスク露光 |
| 設置場所 |
| 桂クリーンルーム |
| 装置利用料金 |
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