B57ナノインプリントシステム
Nanoimprint Lithography
特徴 |
空気圧による基板全面への均一なインプリント |
基板への正確なパターン転写を実現 |
熱/UV対応の全面一括転写 |
非常に簡単な操作 |
表面形状を選ばずインプリント可能 |
マスタースタンパの消耗を低減できる方式 |
装置仕様 | |
装置仕様 インプリント方式 | 熱およびUV、全面一括 |
到達温度 | 250℃(最高) |
圧力 | 50bar(最高) |
基板サイズ | 3インチΦ(最大) |
設置場所 |
桂クリーンルーム |
装置利用料金 |
こちらをご覧ください。 |