ナノテクノロジー　プラットフォーム　微細加工プラットフォームコンソーシアム　実施機関

併用装置・検索

この装置検索システムでは京大ナノハブ拠点所有の装置はもちろんのこと、
下記機関の供用装置も検索が可能です。(2019年4月1日現在)
・大阪大学　ナノテクノロジー設備併用拠点 微細加工ナノテクノロジープラットフォーム
・京都大学　微細構造解析プラットフォーム
・京都大学　医学研究科 医学研究支援センター

装置一覧

B:ナノ材料加工・創生装置群

B32B33真空蒸着装置
Thermal Evaporator

  • 抵抗加熱蒸着装置
  • RD-1400
  • 製造：(株)サンバック
  • 真空中で抵抗加熱蒸発源により物質を蒸発させ、電極・マスク材等の金属膜を作製することができます。
真空蒸着装置<br>Thermal Evaporator
機能
到達圧力 7.0×10-5Pa以下（常圧・無負荷時）
蒸着方法 抵抗加熱方式
電極数量 3式(切り替え方式）
基板 Φ4インチおよびΦ6インチウェハーに対応
基板加熱温度 ハロゲンランプ加熱方式により最高350℃
設置場所
総合研究10号館
加工・評価室
装置利用料金
こちらをご覧ください。