1.　京都大学ナノテクノロジーハブ拠点では、利用者様にご利用いただけるフォトマスクをご用意しています。

2.　マスクは密着露光用に２種類あり、A05両面マスクアライナー、A06紫外線露光装置（5インチのみ）、B16ナノインプリントボンドアライメント装置何れでもご利用いただけます。

3.　マスクの利用を希望される方は、事前に上記の装置担当者にご連絡ください。

4.　使用後は、直ぐに所定の洗浄を行なってください。

5. 利用料金として、１日の使用につき１時間分の技術補助料( \3,400 ) をご負担いただきますので、ご了承ください。

詳しくはこちらの資料をご覧ください。