ナノテクノロジー プラットフォーム 微細加工プラットフォームコンソーシアム 実施機関

お知らせ

2023/07/03
新規装置導入のお知らせ(これに伴う装置移設、装置No.変更など)【7/3 更新】

【2023/07/03 更新】
新規導入装置については、多数の利用者様にお試し頂き、
当方としても、貴重な情報を収集することができました。
課金の準備が整いましたので、7/3から課金対象とさせて頂きます。
引き続き、新規装置のご利用をお待ちしております。

 
【2023/04/05 原文】
この度、吉田キャンパスに新たに下記装置を導入致しました。
まもなく共用開始を予定しておりますので、装置利用をご検討ください。
進捗については、随時こちらのページでお知らせ致します。
 
また、上記に伴い吉田キャンパスが手狭になったため、
一部装置を桂キャンパスに移設しております。
該当装置は下記に記載しておりますので、併せてご確認ください。

装置No. 装置名/型番
変更内容
B38 原子層堆積装置 / AD-800LP-KN
→ 新規導入※1
B39 UVナノインプリント装置 / EVG6200TBN
→ 新規導入※1
B40 熱インプリント装置 / EVG510
→ 新規導入※1
A20
(旧E27)
回路&レイアウト設計ツール / Tanner EDA Tanner Tools Pro
→ 装置有料化に伴い装置No.を変更。※1
A55
(旧A05)
両面マスクアライナー / MA6 BSA SPEC-KU/3
→ 吉田から桂キャンパスへ移設に伴い、設置場所および装置No.を変更。※2
B57
(旧B26)
ナノインプリントシステム / Eitre3
→ 吉田から桂キャンパスへ移設に伴い、設置場所および装置No.を変更。※2
B58
(旧B28)
電子線蒸着装置(2) / OVE-350
→ 吉田から桂キャンパスへ移設に伴い、設置場所および装置No.を変更。※2
B59
(旧B35)
深堀ドライエッチング装置 / RIE-800iPB-KU
→ 吉田から桂キャンパスへ移設に伴い、設置場所および装置No.を変更。※2
A19
(旧B16)
両面マスク露光&ボンドアライメント装置 / MA/BA8 Gen3 SPEC-KU
→ 旧A05装置移設に伴って本装置の主な用途を変更したため、
装置名称および装置No.を変更。

【注 意】
※1. 2023年4月~6月末頃までは、装置料金が無料でご利用頂けます。
  なお、無料期間の終了時期(詳細)については、後日こちらに掲載します。
※2. 装置利用にあたっては、事前に安全教育(桂キャンパス向け)の受講が必要になります。