ナノテクノロジー プラットフォーム 微細加工プラットフォームコンソーシアム 実施機関

お知らせ

2024/04/15
新規装置導入のお知らせほか(装置移設・No.変更)

このたび、吉田キャンパスに下記の新規装置が導入されました。
4/15(月)より共用開始をはじめますので、最新装置の利用をご検討くださいませ。
なお、装置の機能詳細については、都度お問合せください。
 

・マスクレス露光装置/Advanced Maskless Aligner

  Heidelberg Instruments / MLA150
 装置紹介ページ> <メーカー装置情報ページ
 

・二光子重合式3Dプリンター/3D Nanolithography System

  Heidelberg Instruments / MPO100 ★国内初導入
 装置紹介ページ)> <メーカー製品情報ページ
 
 
また、上記導入に伴って一部装置を桂キャンパスに移設しています。
該当装置は下記に記載しておりますので、併せてご確認ください。

装置No. 装置名/型番
変更内容
A21 マスクレス露光装置 / Heidelberg Instruments MLA150
→ 新規導入
A22 二光子重合式3Dプリンター / Heidelberg Instruments MPO100
→ 新規導入
A56
(旧A04)
高速マスクレス露光装置 / NanoSystem Solutions DL-1000GS/KCH
→ 桂キャンパスへの移設に伴い、装置場所・装置No.を変更。※1
A57
(旧A13)
超微細インクジェット描画装置 / SIJ Technology ST050
→ 桂キャンパスへの移設に伴い、装置場所・装置No.を変更。

【注 意】
※1. 現在、装置立上中。利用再開については、後日こちらに掲載します。