2024/04/15
新規装置導入のお知らせほか（装置移設・No.変更）
このたび、吉田キャンパスに下記の新規装置が導入されました。
4/15(月)より共用開始をはじめますので、最新装置の利用をご検討くださいませ。
なお、装置の機能詳細については、都度お問合せください。
Heidelberg Instruments / MLA150
＜装置紹介ページ＞ ＜メーカー装置情報ページ＞
Heidelberg Instruments / MPO100 ★国内初導入
＜装置紹介ページ）＞ ＜メーカー製品情報ページ＞
また、上記導入に伴って一部装置を桂キャンパスに移設しています。
該当装置は下記に記載しておりますので、併せてご確認ください。
| 装置No. | 装置名／型番 |
| 変更内容 | |
| A21 | マスクレス露光装置 ／ Heidelberg Instruments MLA150 |
| → 新規導入 | |
| A22 | 二光子重合式3Dプリンター ／ Heidelberg Instruments MPO100 |
| → 新規導入 | |
| A56 (旧A04) |
高速マスクレス露光装置 ／ NanoSystem Solutions DL-1000GS/KCH |
| → 桂キャンパスへの移設に伴い、装置場所・装置No.を変更。※1 | |
| A57 (旧A13) |
超微細インクジェット描画装置 ／ SIJ Technology ST050 |
| → 桂キャンパスへの移設に伴い、装置場所・装置No.を変更。 |
【注 意】
※1. 現在、装置立上中。利用再開については、後日こちらに掲載します。