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カテゴリー |
タイトル |
| 2024年04月10日 |
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二光子重合式3Dプリンター
3D Nanolithography System |
| 2024年04月10日 |
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マスクレス露光装置
Advanced Maskless Aligner |
| 2024年02月09日 |
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回路&レイアウト設計ツール
Ics Design & Layout Editor |
| 2023年03月01日 |
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高圧ジェットリフトオフ装置
High Pressure Jet Lift-off Apparatus |
| 2020年09月30日 |
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超臨界洗浄・乾燥装置
Supercritical Rinser & Dryer |
| 2019年09月25日 |
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近接効果補正システム
Proximity Effect Correction System |
| 2019年01月15日 |
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両⾯マスク露光&ボンドアライメント装置
UV-Nanoimprint Lithography & Infrared Mask/Bond Aligner |
| 2019年01月15日 |
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高速高精度電子ビーム描画装置
Ultra-High Precision Electron Beam Lithography |
| 2019年01月15日 |
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露光装置（ステッパー）
i-line Stepper |
| 2019年01月15日 |
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レーザー直接描画装置
Laser Pattern Generator |
| 2019年01月15日 |
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高速マスクレス露光装置
High Speed Maskless Laser Lithography |
| 2019年01月15日 |
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両面マスクアライナー
Manual High Precision Double-Sided Mask Aligner |
| 2019年01月15日 |
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紫外線露光装置
Contact Mask Aligner |
| 2019年01月15日 |
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厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
Advanced Spin Coater |
| 2019年01月15日 |
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レジスト塗布装置
Photoresist Spin Coater |
| 2019年01月15日 |
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スプレーコータ
Photoresist Spray Coater |
| 2019年01月15日 |
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レジスト現像装置
Photoresist Developer |
| 2019年01月15日 |
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ウエハスピン洗浄装置
Wafer Spin Cleaner |
| 2019年01月15日 |
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ICP質量分析装置
Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer |
| 2019年01月15日 |
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超微細インクジェット描画装置
Super Fine Inkjet Printer |
