日付 |
カテゴリー |
タイトル |
2023年03月01日 |
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高圧ジェットリフトオフ装置 High Pressure Jet Lift-off Apparatus |
2020年09月30日 |
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超臨界洗浄・乾燥装置 Supercritical Rinser & Dryer |
2019年09月25日 |
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近接効果補正システム Proximity Effect Correction System |
2019年01月15日 |
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高速高精度電子ビーム描画装置 Ultra-High Precision Electron Beam Lithography |
2019年01月15日 |
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露光装置(ステッパー) i-line Stepper |
2019年01月15日 |
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レーザー直接描画装置 Laser Pattern Generator |
2019年01月15日 |
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高速マスクレス露光装置 High Speed Maskless Laser Lithography |
2019年01月15日 |
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両面マスクアライナー Manual High Precision Double-Sided Mask Aligner |
2019年01月15日 |
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紫外線露光装置 Contact Mask Aligner |
2019年01月15日 |
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厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置 Advanced Spin Coater |
2019年01月15日 |
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レジスト塗布装置 Photoresist Spin Coater |
2019年01月15日 |
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スプレーコータ Photoresist Spray Coater |
2019年01月15日 |
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レジスト現像装置 Photoresist Developer |
2019年01月15日 |
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ウエハスピン洗浄装置 Wafer Spin Cleaner |
2019年01月15日 |
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ウエハ汚染計測装置 Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer |
2019年01月15日 |
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液滴吐出描画装置 Super Fine Inkjet Printer |
2019年01月15日 |
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有機現像液型レジスト現像装置 EB-Resist Developer |
2019年01月15日 |
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大面積超高速電子線描画装置 Large Area and Ultra-High Speed Electron Beam Lithography |
2019年01月15日 |
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移動マスク紫外線露光装置 Moving Mask UV Lithography |
2019年01月15日 |
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両面マスクアライナー露光装置 Double-Sided Mask Aligner |