ナノテクノロジー プラットフォーム 微細加工プラットフォームコンソーシアム 実施機関

お知らせ

日付 カテゴリー タイトル
2020年09月30日 超臨界洗浄・乾燥装置
Supercritical Rinser & Dryer
2019年09月25日 近接効果補正システム
Proximity Effect Correction System
2019年01月15日 高速高精度電子ビーム描画装置
Ultra-High Precision Electron Beam Lithography
2019年01月15日 露光装置(ステッパー)
i-line Stepper
2019年01月15日 レーザー直接描画装置
Laser Pattern Generator
2019年01月15日 高速マスクレス露光装置
High Speed Maskless Laser Lithography
2019年01月15日 両面マスクアライナー
Manual High Precision Double-Sided Mask Aligner
2019年01月15日 紫外線露光装置
Contact Mask Aligner
2019年01月15日 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
Advanced Spin Coater
2019年01月15日 レジスト塗布装置
Photoresist Spin Coater
2019年01月15日 スプレーコータ
Photoresist Spray Coater
2019年01月15日 レジスト現像装置
Photoresist Developer
2019年01月15日 ウエハスピン洗浄装置
Wafer Spin Cleaner
2019年01月15日 ウエハ汚染計測装置
Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer
2019年01月15日 液滴吐出描画装置
Super Fine Inkjet Printer
2019年01月15日 有機現像液型レジスト現像装置
EB-Resist Developer
2019年01月15日 大面積超高速電子線描画装置
Large Area and Ultra-High Speed Electron Beam Lithography
2019年01月15日 移動マスク紫外線露光装置
Moving Mask UV Lithography
2019年01月15日 両面マスクアライナー露光装置
Double-Sided Mask Aligner